Подложки с покрытием SiOx проще в обработке, чем другие прозрачные барьерные пленки, они пригодны для вторичной переработки и одобрены Управление по санитарному надзору за качеством пищевых продуктов и медикаментов (FDA) США, поэтому прекрасно подойдут производителям, стремящимся развивать циркулярную экономику.
Процесс BOBST PECVD
 |
Процесс PECVD, который используется для производства пленки с покрытием SiOx, экономически эффективен и уже выведен на рынок компанией BOBST. Он не зависит от оператора, что гарантирует стабильно высокое качество продукции. В процессе используется мономер на основе кремния (HMDSO), который осаждается на подложке в низкотемпературной плазменной среде. Мономер и технологические газы (He, O2 и Ar) вводятся в вакуумную камеру посредством газораспределительного стержня; газораспределительный стержень обеспечивает равномерное распределение технологического газа по всей ширине машины и, следовательно, равномерное нанесение покрытия SiOx.
Пленки, получаемые с помощью процесса PECVD, отличаются очень малой толщиной, и для достижения хороших барьерных свойств необходимо оптимизировать качество нанесения покрытия. В результате подачи питания переменного тока происходит физическое облучение технологического барабана ионами и электронами, благодаря этому оксид кремния закрепляется на пленке, повышая устойчивость к проникновению кислорода и воды.
На протяжении всего процесса используются низкие температуры, поэтому процесс подходит для чувствительных к нагреванию и тонких подложек, таких как BOPP и CPP.
Непроницаемый барьер для кислорода и воды
 |
Пленка с покрытием SiOx обладает превосходными барьерными свойствами для защиты от проникновения кислорода и воды: около 2 см3/м2/день (OTR) и около 2 г/м2/день (WVTR) в случае ПЭТ. Высокие барьерные уровни сохраняются даже при испытании на растяжение: пленка выдерживает высокий уровень деформации и растяжения, сохраняя барьерные свойства при уровнях деформации <4 %. На графиках представлена устойчивость пленки к изгибу, измеренная с помощью агрессивного теста Gelbo.
Результаты испытаний показывают, что покрытие SiOx может выдерживать различные напряжения и деформации в процессе обработки без существенного ухудшения барьерных свойств, что делает эту пленку наиболее универсальной и устойчивой неорганической прозрачной барьерной пленкой.
Высокая адгезия для реторт-упаковки
Процесс BOBST SiOx обеспечивает превосходные адгезионные свойства при работе как с сухими, так и с мокрыми материалами — можно достичь значений адгезии >4 Н/15 мм. Это означает, что покрытие подходит для применения во многих видах реторт-упаковки, представленных на рынке.
Комплексное решение для обработки BOBST
Процесс BOBST PECVD SiOx доступен на платформе BOBST K6. Эта машина оснащена двумя барабанами для нанесения покрытий и поставляется вместе с машиной для нанесения покрытий CO 1000 от Bobst Italia в качестве комплексного решения для обработки SiOx. Решение предусматривает нанесение верхнего слоя на пленку SiOx, что улучшает печатные свойства и усиливает изоляцию, гарантируя максимальные барьерные свойства в течение долгого времени.
О компании
Bobst - ведущий мировой поставщик оборудования и услуг для компаний производителей упаковки и этикетки в отраслях производства картонных коробок, гофрокартона и гибких материалов.
Компания, основанная Йозефом Бобстом в 1890 г. в Лозанне, Швейцария, сегодня работает более чем в 50 странах, а ее 12 производственных предприятий расположены в 8 странах. Общий штат всех подразделений компании насчитывает порядка 5 000 человек.
